光刻机共2篇
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韩国政府简化 EUV 光刻机导入管理，可缩短 25 天流程时间五猫网 - AI工具、API服务与独立产品开发五猫网

韩国政府简化 EUV 光刻机导入管理，可缩短 25 天流程时间

EUV 机台此前属于“高压气体制造设备”，审查流程达到 34 天；而新实施细则可将流程缩短至 9 日。
尼康宣布开发新款半导体后端工艺数字光刻机：1.5μm 分辨率，效率提升 30%五猫网 - AI工具、API服务与独立产品开发五猫网

尼康宣布开发新款半导体后端工艺数字光刻机：1.5μm 分辨率，效率提升 30%

该设备与已在接受订单的 DSP-100 共享技术平台，但有着不同的优势。其也可以通过更换光学系统升级至与 DSP-100 相同的 1μm 分辨率。